AMC LAB Challenge ’21「Print on Alternative]のインタビューを公開しました。
『AMC LAB Challenge(略称:AMCラボチャレ)』は、学生のチャレンジを総力を上げて応援する企画です。
2021年度は、AMCラボの新設備「UVプリンターを使ったプロトタイピング」がテーマです。
今年度チャレンジの審査通過者2名とのインタビュー動画を公開します。
企画:AMC LAB Challenge ’21「Print on Alternative]
主催:東京藝術大学 芸術情報センター
審査通過者:
大槻修士 デザイン科 修士2年 + 大利光輝 (c.o.p.y)
布谷麻衣 メディア映像科 修士1年企画
募集期間:2021年6月25日〜7月20日2021年 7月21日
審査結果Web発表
2021年8,9月 スタッフの支援を受けてAMCラボにて制作
2021年11月 AMCラボ入り口て制作物を公開展示
2021年12月 AMCオンラインオープンラボにて審査通過者インタビュー公開
大槻修士 デザイン科 修士2年 + 大利光輝 (c.o.p.y) インタビュー
布谷麻衣 メディア映像科 修士1年
c.o.p.y 制作物+制作風景(一部)
布谷 麻衣 制作物+制作風景(一部)